多弧離子鍍的原理

        多弧離子鍍是采用電弧放電的方法，在固體的陰極靶材上直接蒸發金屬，蒸發物是從陰極弧光輝點放出的陰極物質的離子，從而在基材表面沉積成為薄膜的方法。

        離子鍍是真空室中，利用氣體放電或被蒸發物質部分離化，在氣體離子或被蒸發物質粒子轟擊作用的同時，將蒸發物或反應物沉積在基片上。離子鍍把輝光放電現象、等離子體技術和真空蒸發三者有機結合起來，不僅能明顯地改進了膜質量，而且還擴大了薄膜的應用范圍。其優點是薄膜附著力強，繞射性好，膜材廣泛等。

D.M.首次提出離子鍍原理，其工作過程是：

        先將真空室抽至4×10（-3）帕以上的真空度，再接通高壓電源，在蒸發源與基片之間建立一個低壓氣體放電的低溫等離子區。基片電極接上5KV直流負高壓，從而形成輝光放電陰極。輝光放電區產生的惰性氣體離子進入陰極暗區被電場加速并轟擊基片表面，對其進行清洗。然后進入鍍膜過程，加熱使鍍料氣化，起原子進入等離子區，與惰性氣體離子及電子發生碰撞，少部分產生離化。離化后的離子及氣體離子以較高能量轟擊鍍層表面，致使膜層質量得到改善。

        然而多弧離子鍍與一般的離子鍍有著很大的區別。多弧離子鍍采用的是弧光放電，而并不是傳統離子鍍的輝光放電進行沉積。簡單的說，多弧離子鍍的原理就是把陰極靶作為蒸發源，通過靶與陽極殼體之間的弧光放電，使靶材蒸發，從而在空間中形成等離子體，對基體進行沉積。

多弧離子鍍的優點

（1）從陰極直接產生等離子體，不用熔池，陰極靶可根據工件形狀在任意方向布置，使夾具大為簡化。

（2）入射粒子能量高，膜的致密度高，強度和耐久性好，附著強度好。

（3）離化率高，一般可達60%~80%。

（4）從應用的角度講，其突出優點是蒸鍍速率快。

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